- 5 resultaten
laagste prijs: € 200,04, hoogste prijs: € 257,81, gemiddelde prijs: € 229,16
1
Ion Implantation - Emanuele Rimini
bestellen
bij Weltbild.de
€ 235,39
verzending: € 0,001
bestellen
Details aangeboden
Gesponsorde link
Emanuele Rimini:

Ion Implantation - nieuw boek

1995, ISBN: 0792395204

Ion implantation offers one of the best examples of a topic that starting from the basic research level has reached the high technology level within the framework of microelectronics. As … Meer...

Nr. 23802648. Verzendingskosten:, 2-5 Werktage, DE. (EUR 0.00)
dichtslaan (X)
2
Ion Implantation: Basics to Device Fabrication / Emanuele Rimini / Buch / The Springer International Series in Engineering and Computer Science / HC runder Rücken kaschiert / XIII / Englisch / 1994 - Rimini, Emanuele
bestellen
bij booklooker.de
€ 209,70
bestellen
Details en verzending
Gesponsorde link

Rimini, Emanuele:

Ion Implantation: Basics to Device Fabrication / Emanuele Rimini / Buch / The Springer International Series in Engineering and Computer Science / HC runder Rücken kaschiert / XIII / Englisch / 1994 - gebonden uitgave, pocketboek

1994, ISBN: 9780792395201

[ED: Gebunden], [PU: Springer US], Ion implantation offers one of the best examples of a topic that starting from the basic research level has reached the high technology level within the… Meer...

Verzendingskosten:Zzgl. Versandkosten., exclusief verzendingskosten Buchbär
dichtslaan (X)
3
bestellen
bij alibris.co.uk
€ 257,81
bestellen
Details en verzending
Gesponsorde link
Rimini, Emanuele:
Ion Implantation: Basics to Device Fabrication - gebonden uitgave, pocketboek

1994

ISBN: 9780792395201

Hard cover, New., Sewn binding. Cloth over boards. 393 p. Contains: Unspecified. The Springer International Engineering and Computer Science, 293., New York, NY, [PU: Springer]

Verzendingskosten:exclusief verzendingskosten Uxbridge, MIDDLESEX, Ria Christie Books
dichtslaan (X)
4
Ion Implantation : Basics to Device Fabrication - Rimini, E.; Rimini, Emanuele (physics Department, University Of Catania, Italy); Rimini, Emanuele
bestellen
bij AbeBooks.fr
€ 242,87
verzending: € 14,151
bestellen
Details aangeboden
Gesponsorde link
Rimini, E.; Rimini, Emanuele (physics Department, University Of Catania, Italy); Rimini, Emanuele:
Ion Implantation : Basics to Device Fabrication - gebonden uitgave, pocketboek

1994, ISBN: 0792395204

[EAN: 9780792395201], Nouveau livre, [SC: 14.15], [PU: Springer], Books

NEW BOOK. Verzendingskosten: EUR 14.15 GreatBookPrices, Columbia, MD, U.S.A. [5352716] [Note: 4 (sur 5)]
dichtslaan (X)
5
bestellen
bij alibris.co.uk
€ 200,04
bestellen
Details en verzending
Gesponsorde link
Rimini, Emanuele:
Ion Implantation: Basics to Device Fabrication (the Springer International Series in Engineering and Computer Science) - gebonden uitgave, pocketboek

1994, ISBN: 9780792395201

Hardcover, Nouveau livre, As new., [PU: Springer]

Verzendingskosten:exclusief verzendingskosten North Las Vegas, NV, GridFreed
dichtslaan (X)
1Aangezien sommige platformen geen verzendingsvoorwaarden meedelen en deze kunnen afhangen van het land van levering, de aankoopprijs, het gewicht en de grootte van het artikel, een eventueel lidmaatschap van het platform, een rechtstreekse levering door het platform of via een derde aanbieder (Marktplaats), enz., is het mogelijk dat de door euro-boek.nl meegedeelde verzendingskosten niet overeenstemmen met deze van het aanbiedende platform.

Bibliografische gegevens van het best passende boek

Bijzonderheden over het boek
Ion Implantation: Basics to Device Fabrication
auteur:
Titel:
ISBN:

0792395204


Ion Implantation: Basics to Device Fabrication is a collection of research dealing with several aspects of ion implantation, including basic information on the physics of devices, ion implanters, channeling implants, yield, damage and its annealing, in addition to a host of other topics. Particular attention has been paid to those techniques that provide two-dimensional profiles of damage and of dopants, a careful treatment of silicon based devices, threshold voltage control, shallow junctions, minority carrier lifetime control by metallic ion implants, and high energy implants is given in this work. This book, based on a course preceding the biannual Ion Implantation Technology Conference, is a valuable reference for physicists, chemists, materials scientists, processing, device production, device design, and ion beam engineers interested in any aspect of ion implantation, as well as a secondary text for a graduate course on the subject.

Gedetalleerde informatie over het boek. - Ion Implantation: Basics to Device Fabrication


EAN (ISBN-13): 9780792395201
ISBN (ISBN-10): 0792395204
Gebonden uitgave
pocket book
Verschijningsjaar: 1994
Uitgever: Springer
410 Bladzijden
Gewicht: 0,771 kg
Taal: eng/Englisch

Boek bevindt zich in het datenbestand sinds 2008-03-18T15:06:10+01:00 (Amsterdam)
Detailpagina laatst gewijzigd op 2024-01-31T15:30:44+01:00 (Amsterdam)
ISBN/EAN: 0792395204

ISBN - alternatieve schrijfwijzen:
0-7923-9520-4, 978-0-7923-9520-1
alternatieve schrijfwijzen en verwante zoekwoorden:
Auteur van het boek: rimini, emanuele
Titel van het boek: ion, basics, rimini, computer science

Gegevens van de uitgever

Auteur: Emanuele Rimini
Titel: The Springer International Series in Engineering and Computer Science; Ion Implantation: Basics to Device Fabrication
Uitgeverij: Springer; Springer US
393 Bladzijden
Verschijningsjaar: 1994-12-31
New York; NY; US
Taal: Engels
235,39 € (DE)
241,99 € (AT)
260,00 CHF (CH)
Available
XIII, 393 p.

BB; Hardcover, Softcover / Technik/Maschinenbau, Fertigungstechnik; Werkstoffprüfung; Verstehen; basic research; ion; material; radiation; semiconductor; silicon; Characterization and Analytical Technique; Inorganic Chemistry; Nuclear Physics; Anorganische Chemie; Atom- und Molekularphysik; EA; BC

1 Semiconductor Devices.- 1.1 Introduction.- 1.2 Semiconductor Physics.- 1.3 p-n Junction and Diode.- 1.4 Unipolar and Bipolar Transistors.- 1.5 Ion Implantation and Semiconductor Devices.- 1.6 Damage and Yield.- 1.7 Future Trend.- 2 Ion Implanters.- 2.1 Introduction.- 2.2 Ion Sources.- 2.3 High Energy Implanters.- 2.4 Magnetic Analyzer and Beam Transport.- 2.5 Energy Contamination.- 2.6 Scan System and Current Measurement.- 2.7 Wafer Cooling.- 2.8 Wafer Charging.- 2.9 Uniformity Control and Mapping.- 2.10 Contaminants and Yield.- 2.11 Plasma Immersion Ion Implantation.- 3 Range Distribution.- 3.1 Introduction.- 3.2 Elastic Stopping Power.- 3.3 Electronic Energy Loss.- 3.4 Depth Profile of Implanted Ions.- 3.5 Penetration Anomalies.- 3.6 Channeling Implants.- 3.7 Lateral Spreading.- 3.8 Simulation of Range Distribution.- 4 Radiation Damage.- 4.1 Introduction.- 4.2 Collision Cascade.- 4.3 Damage Distribution.- 4.4 Crystalline Defects.- 4.5 Primary Defects.- 4.6 Hot Implants.- 4.7 Ion Beam Induced Enhanced Crystallization.- 4.8 Ion Implantation into Localized Si Areas.- 5 Annealing and Secondary Defects.- 5.1 Introduction.- 5.2 Solid Phase Epitaxial Growth of Amorphous Silicon.- 5.3 Annealing of Low-Dose Heavy - Ion Implant.- 5.4 Regrowth of Amorphous Layer Under a Mask.- 5.5 Annealing of Heavily Disordered Regions.- 5.6 Rapid Thermal Processing.- 5.7 Impurity Diffusion During Annealing.- 5.8 Interaction of Impurities with Ion Implanted Defects.- 5.9 Defect Engineering.- 6 Analytical Techniques.- 6.1 Introduction.- 6.2 Secondary Ion Mass Spectrometry.- 6.3 Spreading Resistance Profilometry: One and Two Dimensional Analyses.- 6.4 Carrier and Mobility Profiles.- 6.5 Rutherford Backscattering and Channeling Effect.- 6.6 Transmission Electron Microscopy.- 7 Silicon Based Devices.- 7.1 Introduction.- 7.2 Threshold Voltage Control in MOSFET.- 7.3 Short Channel Effects.- 7.4 Shallow Junctions.- 7.5 Complementary MOS Devices and Technology.- 7.6 Lifetime Engineering in Power Devices.- 7.7 High Energy Implant Applications.- 7.8 High-Speed Bipolar Transistors.- 8 Ion Implantation in Compound Semi-Conductor and Buried Layer Synthesis.- 8.1 Introduction.- 8.2 Ion Implantation in GaAs.- 8.3 Ion Implantation in InP.- 8.4 Isolation of III-V Semiconductors.- 8.5 Isolation of Superlattice and Quantum Well Structures.- 8.6 Synthesis of Buried Dielectric.- 8.7 Devices in SOI Substrates.- 8.8 Buried Metal Layer Formation.- 8.9 Compound Semiconductor Based Devices.- Selected References.- References.

Andere boeken die eventueel grote overeenkomsten met dit boek kunnen hebben:

Laatste soortgelijke boek:
9781461522591 Ion Implantation: Basics to Device Fabrication (Emanuele Rimini)

< naar Archief...