- 5 resultaten
laagste prijs: € 344,39, hoogste prijs: € 444,90, gemiddelde prijs: € 395,59
1
Advances in Rapid Thermal and Integrated Processing
bestellen
bij Indigo.ca
C$ 584,95
(ongeveer € 403,47)
bestellen
Details en verzending
Gesponsorde link

Advances in Rapid Thermal and Integrated Processing - nieuw boek

ISBN: 9780792340119

Rapid thermal and integrated processing is an emerging single-wafer technology in ULSI semiconductor manufacturing, electrical engineering, applied physics and materials science. Here, … Meer...

new in stock. Verzendingskosten:zzgl. Versandkosten., exclusief verzendingskosten
dichtslaan (X)
2
Advances in Rapid Thermal and Integrated Processing
bestellen
bij Averdo.com
€ 344,39
verzending: € 0,001
bestellen
Details aangeboden
Gesponsorde link
Advances in Rapid Thermal and Integrated Processing - gebonden uitgave, pocketboek

ISBN: 9780792340119

Erscheinungsdatum: 31.03.1996, Medium: Buch, Einband: Gebunden, Titel: Advances in Rapid Thermal and Integrated Processing, Auflage: 1996, Redaktion: Roozeboom, F., Verlag: Springer Nethe… Meer...

Nr. 71116657. Verzendingskosten:, Next Day, DE. (EUR 0.00)
dichtslaan (X)
3
Advances in Rapid Thermal and Integrated Processing - Roozeboom, F. (Herausgeber)
bestellen
bij Achtung-Buecher.de
€ 444,90
verzending: € 0,001
bestellen
Details aangeboden
Gesponsorde link
Roozeboom, F. (Herausgeber):
Advances in Rapid Thermal and Integrated Processing - gebonden uitgave, pocketboek

1996

ISBN: 0792340116

1996 Gebundene Ausgabe Festkörperphysik, Mikroskopie, Optik, Spektroskopie, Arbeitsstoff, Material, Werkstoff, Spektroskopie, Spektrochemie, Massenspektrometrie, Technische Anwendung vo… Meer...

Verzendingskosten:Versandkostenfrei innerhalb der BRD. (EUR 0.00) MARZIES.de Buch- und Medienhandel, 14621 Schönwalde-Glien
dichtslaan (X)
4
Advances in Rapid Thermal and Integrated Processing
bestellen
bij Hugendubel.de
€ 392,49
verzending: € 0,001
bestellen
Details aangeboden
Gesponsorde link
Advances in Rapid Thermal and Integrated Processing - pocketboek

ISBN: 9780792340119

Advances in Rapid Thermal and Integrated Processing ab 392.49 € als gebundene Ausgabe: Auflage 1996. Aus dem Bereich: Bücher, Wissenschaft, Physik, Medien > Bücher nein Buch (gebunden) Ha… Meer...

Verzendingskosten:Shipping in 5 days, , Versandkostenfrei nach Hause oder Express-Lieferung in Ihre Buchhandlung., DE. (EUR 0.00)
dichtslaan (X)
5
Advances in Rapid Thermal and Integrated Processing - F. Roozeboom
bestellen
bij lehmanns.de
€ 392,69
verzending: € 0,001
bestellen
Details aangeboden
Gesponsorde link
F. Roozeboom:
Advances in Rapid Thermal and Integrated Processing - gebonden uitgave, pocketboek

1996, ISBN: 9780792340119

1996 ed., Hardcover, Buch, [PU: Springer]

Verzendingskosten:Versand in 7-9 Tagen, , Versandkostenfrei innerhalb der BRD. (EUR 0.00)
dichtslaan (X)
1Aangezien sommige platformen geen verzendingsvoorwaarden meedelen en deze kunnen afhangen van het land van levering, de aankoopprijs, het gewicht en de grootte van het artikel, een eventueel lidmaatschap van het platform, een rechtstreekse levering door het platform of via een derde aanbieder (Marktplaats), enz., is het mogelijk dat de door euro-boek.nl meegedeelde verzendingskosten niet overeenstemmen met deze van het aanbiedende platform.

Bibliografische gegevens van het best passende boek

Bijzonderheden over het boek
Advances in Rapid Thermal and Integrated Processing
auteur:
Titel:
ISBN:

9780792340119


Rapid thermal and integrated processing is an emerging single-wafer technology in ULSI semiconductor manufacturing, electrical engineering, applied physics and materials science. Here, the physics and engineering of this technology are discussed at the graduate level. Three interrelated areas are covered. First, the thermophysics of photon-induced annealing of semiconductor and related materials, including fundamental pyrometry and emissivity issues, the modelling of reactor designs and processes, and their relation to temperature uniformity. Second, process integration, treating the advances in basic equipment design, scale-up, integrated cluster-tool equipment, including wafer cleaning and integrated processing. Third, the deposition and processing of thin epitaxial, dielectric and metal films, covering selective deposition and epitaxy, integrated processing of layer stacks, and new areas of potential application, such as the processing of III-V semiconductor structures and thin- film head processing for high-density magnetic data storage.

Gedetalleerde informatie over het boek. - Advances in Rapid Thermal and Integrated Processing


EAN (ISBN-13): 9780792340119
ISBN (ISBN-10): 0792340116
Gebonden uitgave
pocket book
Verschijningsjaar: 1996
Uitgever: Springer Netherlands
582 Bladzijden
Gewicht: 1,029 kg
Taal: eng/Englisch

Boek bevindt zich in het datenbestand sinds 2007-10-15T17:28:55+02:00 (Amsterdam)
Detailpagina laatst gewijzigd op 2024-01-13T18:07:59+01:00 (Amsterdam)
ISBN/EAN: 9780792340119

ISBN - alternatieve schrijfwijzen:
0-7923-4011-6, 978-0-7923-4011-9
alternatieve schrijfwijzen en verwante zoekwoorden:
Auteur van het boek: roozeboom, rooseboom, rooze
Titel van het boek: maratea, rapid

Gegevens van de uitgever

Auteur: F. Roozeboom
Titel: NATO Science Series E:; Advances in Rapid Thermal and Integrated Processing
Uitgeverij: Springer; Springer Netherland
566 Bladzijden
Verschijningsjaar: 1996-03-31
Dordrecht; NL
Taal: Engels
427,99 € (DE)
439,99 € (AT)
472,00 CHF (CH)
Available
XII, 566 p.

BB; Hardcover, Softcover / Physik, Astronomie/Atomphysik, Kernphysik; Physik der kondensierten Materie (Flüssigkeits- und Festkörperphysik); Verstehen; Metall; Semiconductor; electrical engineering; materials science; semiconductors; thin film; Condensed Matter Physics; Spectroscopy; Optical Materials; Characterization and Analytical Technique; Spektroskopie, Spektrochemie, Massenspektrometrie; Technische Anwendung von elektronischen, magnetischen, optischen Materialien; Werkstoffprüfung; BC; EA

1. Introduction: history and perspectives of Rapid Thermal Processing.- 2. The thermal radiative properties of semiconductors.- 3. Wafer temperature measurement in RTP.- 4. Wafer emissivity in RTP.- 5. Temperature and process control in Rapid Thermal Processing.- 6. Single-wafer process integration and process control techniques.- 7. Rapid Thermal O2-oxidation and N2O-oxynitridation.- 8. Integrated pre-gate dielectric cleaning and surface preparation.- 9. Dielectric photoformation on Si and SiGe.- 10. Modeling strategies for Rapid Thermal Processing: finite element and Monte Carlo methods.- 11. Modeling approaches for Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition: combining transport phenomena with chemical kinetics.- 12. Silicidation and metallization issues using Rapid Thermal Processing.- 13. Rapid Thermal Multiprocessing for a programmable factory for manufacturing of ICs.- 14. RTCVD integrated processing for photovoltaic application.- 15. Equipment design, cluster tools and scale-up issues.- 16. Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition of epitaxial Si and SiGe.- 17. The evolving role of Rapid Thermal Processing for deep submicron devices.- 18. Rapid Thermal Processing of contacts and buffer layers for compound semiconductor device technology.- 19. Rapid Thermal Processing of magnetic thin films for data storage devices.- Appendix List of ASI participants.

Andere boeken die eventueel grote overeenkomsten met dit boek kunnen hebben:

Laatste soortgelijke boek:
9789401587112 Advances in Rapid Thermal and Integrated Processing (F. Roozeboom)

< naar Archief...