
2010, ISBN: 9789048162772
Springer, Taschenbuch, Auflage: Softcover reprint of hardcover 1st ed. 2003, 288 Seiten, Publiziert: 2010-12-01T00:00:01Z, Produktgruppe: Buch, Hersteller-Nr.: 9789048162772, 0.41 kg, Che… Meer...
Amazon.de (Intern... Verzendingskosten:De verzendkosten kunnen afwijken van de werkelijke kosten. (EUR 3.00) Details... |
2010, ISBN: 9048162777
gebonden uitgave
Softcover reprint of hardcover 1st ed. 2003 Kartoniert / Broschiert Atom- und Molekularphysik, Industrielle Chemie und Chemietechnologie, Fertigungstechnik und Ingenieurwesen, Natur; Te… Meer...
Achtung-Buecher.de MARZIES.de Buch- und Medienhandel, 14621 Schönwalde-Glien Verzendingskosten:Geen versendingskosten in Duitsland. (EUR 0.00) Details... |

ISBN: 9789048162772
By M.K. Zuraw, D.M. Dobkin. Do you work with chemical Vapor deposition processes or reactors?. Have you ever wondered what goes on inside the chamber or how the deposition processes work?… Meer...
ebay.nl the_nile_uk_store 98.7, Priority Listing. Verzendingskosten:Versand zum Fixpreis, 450** Fairfield. (EUR 7.96) Details... |

2010, ISBN: 9048162777
[EAN: 9789048162772], Tweedehands, zeer goed, [SC: 15.35], [PU: Springer], Book is in Used-VeryGood condition. Pages and cover are clean and intact. Used items may not include supplementa… Meer...
AbeBooks.co.uk GF Books, Inc., Hawthorne, CA, U.S.A. [64674448] [Beoordeling: 5 (van 5)] NOT NEW BOOK. Verzendingskosten: EUR 15.35 Details... |
ISBN: 9789048162772
by D.M. Dobkin; M.K. Zuraw, PRINT ISBN: 9789048162772 E-TEXT ISBN: 9789401703697 Additional ISBNs: 9781402012488 Springer Nature eBook Other pricing structure might be available at vitals… Meer...
VitalSource.com new in stock Germany. Verzendingskosten:plus verzendkosten., exclusief verzendingskosten Details... |


2010, ISBN: 9789048162772
Springer, Taschenbuch, Auflage: Softcover reprint of hardcover 1st ed. 2003, 288 Seiten, Publiziert: 2010-12-01T00:00:01Z, Produktgruppe: Buch, Hersteller-Nr.: 9789048162772, 0.41 kg, Che… Meer...
2010, ISBN: 9048162777
gebonden uitgave
Softcover reprint of hardcover 1st ed. 2003 Kartoniert / Broschiert Atom- und Molekularphysik, Industrielle Chemie und Chemietechnologie, Fertigungstechnik und Ingenieurwesen, Natur; Te… Meer...

ISBN: 9789048162772
By M.K. Zuraw, D.M. Dobkin. Do you work with chemical Vapor deposition processes or reactors?. Have you ever wondered what goes on inside the chamber or how the deposition processes work?… Meer...

2010, ISBN: 9048162777
[EAN: 9789048162772], Tweedehands, zeer goed, [SC: 15.35], [PU: Springer], Book is in Used-VeryGood condition. Pages and cover are clean and intact. Used items may not include supplementa… Meer...
ISBN: 9789048162772
by D.M. Dobkin; M.K. Zuraw, PRINT ISBN: 9789048162772 E-TEXT ISBN: 9789401703697 Additional ISBNs: 9781402012488 Springer Nature eBook Other pricing structure might be available at vitals… Meer...
Bibliografische gegevens van het best passende boek
auteur: | |
Titel: | |
ISBN: |
Gedetalleerde informatie over het boek. - Principles of Chemical Vapor Deposition: What's Going on Inside the Reactor
EAN (ISBN-13): 9789048162772
ISBN (ISBN-10): 9048162777
Gebonden uitgave
pocket book
Verschijningsjaar: 2010
Uitgever: Springer
288 Bladzijden
Gewicht: 0,439 kg
Taal: eng/Englisch
Boek bevindt zich in het datenbestand sinds 2012-11-13T15:07:08+01:00 (Amsterdam)
Boek voor het laatst gevonden op 2024-12-21T15:33:50+01:00 (Amsterdam)
ISBN/EAN: 9789048162772
ISBN - alternatieve schrijfwijzen:
90-481-6277-7, 978-90-481-6277-2
alternatieve schrijfwijzen en verwante zoekwoorden:
Auteur van het boek: zura, dobkin
Gegevens van de uitgever
Auteur: D.M. Dobkin; M.K. Zuraw
Titel: Principles of Chemical Vapor Deposition
Uitgeverij: Springer; Springer Netherland
273 Bladzijden
Verschijningsjaar: 2010-12-01
Dordrecht; NL
Gedrukt / Gemaakt in
Taal: Engels
246,09 € (DE)
252,99 € (AT)
271,50 CHF (CH)
POD
XI, 273 p.
BC; Hardcover, Softcover / Technik/Maschinenbau, Fertigungstechnik; Werkstoffprüfung; Verstehen; Natur; Technologie; chemistry; coating; development; heat transfer; manufacturing; metal; physics; pressure; transport; vapor; Characterization and Analytical Technique; Industrial Chemistry; Machines, Tools, Processes; Nuclear Physics; Industrielle Chemie und Chemietechnologie; Fertigungstechnik und Ingenieurwesen; Atom- und Molekularphysik; BB
1. Introduction.- 2. Reactors Without Transport.- 3. Mass Transport.- 4. Heat Transport.- 5. Chemistry for CVD.- 6. Gas Discharge Plasmas For CVD.- 7. CVD Films.- 8. CVD Reactors.Andere boeken die eventueel grote overeenkomsten met dit boek kunnen hebben:
Laatste soortgelijke boek:
9789401703697 Principles of Chemical Vapor Deposition (>100)
< naar Archief...