- 5 resultaten
laagste prijs: € 176,74, hoogste prijs: € 374,17, gemiddelde prijs: € 265,55
1
Principles of Chemical Vapor Deposition: What's Going on Inside the Reactor - Dobkin, D.M. Zuraw, M.K.
bestellen
bij Amazon.de (Intern. Bücher)
€ 266,41
verzending: € 3,001
bestellen
Details aangeboden
Gesponsorde link
Dobkin, D.M. Zuraw, M.K.:

Principles of Chemical Vapor Deposition: What's Going on Inside the Reactor - pocketboek

2010, ISBN: 9789048162772

Springer, Taschenbuch, Auflage: Softcover reprint of hardcover 1st ed. 2003, 288 Seiten, Publiziert: 2010-12-01T00:00:01Z, Produktgruppe: Buch, Hersteller-Nr.: 9789048162772, 0.41 kg, Che… Meer...

Verzendingskosten:De verzendkosten kunnen afwijken van de werkelijke kosten. (EUR 3.00)
dichtslaan (X)
2
Principles of Chemical Vapor Deposition - Zuraw, M. K.; Dobkin, D. M.
bestellen
bij Achtung-Buecher.de
€ 253,75
verzending: € 0,001
bestellen
Details aangeboden
Gesponsorde link

Zuraw, M. K.; Dobkin, D. M.:

Principles of Chemical Vapor Deposition - pocketboek

2010, ISBN: 9048162777

gebonden uitgave

Softcover reprint of hardcover 1st ed. 2003 Kartoniert / Broschiert Atom- und Molekularphysik, Industrielle Chemie und Chemietechnologie, Fertigungstechnik und Ingenieurwesen, Natur; Te… Meer...

Verzendingskosten:Geen versendingskosten in Duitsland. (EUR 0.00) MARZIES.de Buch- und Medienhandel, 14621 Schönwalde-Glien
dichtslaan (X)
3
Principles of Chemical Vapor Deposition by M.K. Zuraw (English) Paperback Book
bestellen
bij ebay.nl
€ 374,17
verzending: € 7,961
bestellen
Details aangeboden
Gesponsorde link
Principles of Chemical Vapor Deposition by M.K. Zuraw (English) Paperback Book - nieuw boek

ISBN: 9789048162772

By M.K. Zuraw, D.M. Dobkin. Do you work with chemical Vapor deposition processes or reactors?. Have you ever wondered what goes on inside the chamber or how the deposition processes work?… Meer...

98.7, Priority Listing. Verzendingskosten:Versand zum Fixpreis, 450** Fairfield. (EUR 7.96) the_nile_uk_store
dichtslaan (X)
4
Principles of Chemical Vapor Deposition - Dobkin, D.M.; Zuraw, M.K.
bestellen
bij AbeBooks.co.uk
€ 249,92
verzending: € 15,351
bestellen
Details aangeboden
Gesponsorde link
Dobkin, D.M.; Zuraw, M.K.:
Principles of Chemical Vapor Deposition - pocketboek

2010, ISBN: 9048162777

[EAN: 9789048162772], Tweedehands, zeer goed, [SC: 15.35], [PU: Springer], Book is in Used-VeryGood condition. Pages and cover are clean and intact. Used items may not include supplementa… Meer...

NOT NEW BOOK. Verzendingskosten: EUR 15.35 GF Books, Inc., Hawthorne, CA, U.S.A. [64674448] [Beoordeling: 5 (van 5)]
dichtslaan (X)
5
Principles of Chemical Vapor Deposition (eBook) - D.M. Dobkin; M.K. Zuraw,
bestellen
bij VitalSource.com
€ 223,63
bestellen
Details en verzending
Gesponsorde link
D.M. Dobkin; M.K. Zuraw,:
Principles of Chemical Vapor Deposition (eBook) - nieuw boek

ISBN: 9789048162772

by D.M. Dobkin; M.K. Zuraw, PRINT ISBN: 9789048162772 E-TEXT ISBN: 9789401703697 Additional ISBNs: 9781402012488 Springer Nature eBook Other pricing structure might be available at vitals… Meer...

new in stock Germany. Verzendingskosten:plus verzendkosten., exclusief verzendingskosten
dichtslaan (X)
1Aangezien sommige platformen geen verzendingsvoorwaarden meedelen en deze kunnen afhangen van het land van levering, de aankoopprijs, het gewicht en de grootte van het artikel, een eventueel lidmaatschap van het platform, een rechtstreekse levering door het platform of via een derde aanbieder (Marktplaats), enz., is het mogelijk dat de door euro-boek.nl meegedeelde verzendingskosten niet overeenstemmen met deze van het aanbiedende platform.

Bibliografische gegevens van het best passende boek

Bijzonderheden over het boek
Principles of Chemical Vapor Deposition: What's Going on Inside the Reactor
auteur:
Titel:
ISBN:

9789048162772


Principles of Chemical Vapor Deposition provides a simple introduction to heat and mass transfer, surface and gas phase chemistry, and plasma discharge characteristics. In addition, the book includes discussions of practical films and reactors to help in the development of better processes and equipment. This book will assist workers new to chemical vapor deposition (CVD) to understand CVD reactors and processes and to comprehend and exploit the literature in the field. The book reviews several disparate fields with which many researchers may have only a passing acquaintance, such as heat and mass transfer, discharge physics, and surface chemistry, focusing on key issues relevant to CVD. The book also examines examples of realistic industrial reactors and processes with simplified analysis to demonstrate how to apply the principles to practical situations. The book does not attempt to exhaustively survey the literature or to intimidate the reader with irrelevant mathematical apparatus. This book is as simple as possible while still retaining the essential physics and chemistry. The book is generously illustrated to assist the reader in forming the mental images which are the basis of understanding.

Gedetalleerde informatie over het boek. - Principles of Chemical Vapor Deposition: What's Going on Inside the Reactor


EAN (ISBN-13): 9789048162772
ISBN (ISBN-10): 9048162777
Gebonden uitgave
pocket book
Verschijningsjaar: 2010
Uitgever: Springer
288 Bladzijden
Gewicht: 0,439 kg
Taal: eng/Englisch

Boek bevindt zich in het datenbestand sinds 2012-11-13T15:07:08+01:00 (Amsterdam)
Boek voor het laatst gevonden op 2024-12-21T15:33:50+01:00 (Amsterdam)
ISBN/EAN: 9789048162772

ISBN - alternatieve schrijfwijzen:
90-481-6277-7, 978-90-481-6277-2
alternatieve schrijfwijzen en verwante zoekwoorden:
Auteur van het boek: zura, dobkin

Gegevens van de uitgever

Auteur: D.M. Dobkin; M.K. Zuraw
Titel: Principles of Chemical Vapor Deposition
Uitgeverij: Springer; Springer Netherland
273 Bladzijden
Verschijningsjaar: 2010-12-01
Dordrecht; NL
Gedrukt / Gemaakt in
Taal: Engels
246,09 € (DE)
252,99 € (AT)
271,50 CHF (CH)
POD
XI, 273 p.

BC; Hardcover, Softcover / Technik/Maschinenbau, Fertigungstechnik; Werkstoffprüfung; Verstehen; Natur; Technologie; chemistry; coating; development; heat transfer; manufacturing; metal; physics; pressure; transport; vapor; Characterization and Analytical Technique; Industrial Chemistry; Machines, Tools, Processes; Nuclear Physics; Industrielle Chemie und Chemietechnologie; Fertigungstechnik und Ingenieurwesen; Atom- und Molekularphysik; BB

1. Introduction.- 2. Reactors Without Transport.- 3. Mass Transport.- 4. Heat Transport.- 5. Chemistry for CVD.- 6. Gas Discharge Plasmas For CVD.- 7. CVD Films.- 8. CVD Reactors.

Andere boeken die eventueel grote overeenkomsten met dit boek kunnen hebben:

Laatste soortgelijke boek:
9789401703697 Principles of Chemical Vapor Deposition (>100)

< naar Archief...