2010, ISBN: 9048162777
pocketboek
[EAN: 9789048162772], Neubuch, [PU: Springer, Dordrecht], Paperback. Principles of Chemical Vapor Deposition provides a simple introduction to heat and mass transfer, surface and gas phas… Meer...
AbeBooks.de Grand Eagle Retail, Wilmington, DE, U.S.A. [50531827] [Rating: 5 (von 5)] NEW BOOK. Verzendingskosten: EUR 68.51 Details... |
2010, ISBN: 9048162777
[EAN: 9789048162772], Neubuch, [SC: 0.0], [PU: Springer Netherlands], NATUR; TECHNOLOGIE; CHEMISTRY; COATING; DEVELOPMENT; HEATTRANSFER; MANUFACTURING; METAL; PHYSICS; PRESSURE; TRANSPORT… Meer...
ZVAB.com AHA-BUCH GmbH, Einbeck, Germany [51283250] [Rating: 5 (von 5)] NEW BOOK. Verzendingskosten:Versandkostenfrei. (EUR 0.00) Details... |
2010, ISBN: 9789048162772
[ED: Softcover], [PU: Springer / Springer Netherlands], Principles of Chemical Vapor Deposition provides a simple introduction to heat and mass transfer, surface and gas phase chemistry, … Meer...
booklooker.de buecher.de GmbH & Co. KG Verzendingskosten:Versandkostenfrei, Versand nach Deutschland. (EUR 0.00) Details... |
2010, ISBN: 9789048162772
Buch, Softcover, Softcover reprint of hardcover 1st ed. 2003, Principles of Chemical Vapor Deposition provides a simple introduction to heat and mass transfer, surface and gas phase chemi… Meer...
lehmanns.de Verzendingskosten:Versand in 10-14 Tagen. (EUR 9.95) Details... |
2003, ISBN: 9789048162772
Springer Netherlands, 2003. Paperback. New. 284 pages. 8.80x6.00x0.60 inches., Springer Netherlands, 2003, 6
Biblio.co.uk |
2010, ISBN: 9048162777
pocketboek
[EAN: 9789048162772], Neubuch, [PU: Springer, Dordrecht], Paperback. Principles of Chemical Vapor Deposition provides a simple introduction to heat and mass transfer, surface and gas phas… Meer...
2010, ISBN: 9048162777
[EAN: 9789048162772], Neubuch, [SC: 0.0], [PU: Springer Netherlands], NATUR; TECHNOLOGIE; CHEMISTRY; COATING; DEVELOPMENT; HEATTRANSFER; MANUFACTURING; METAL; PHYSICS; PRESSURE; TRANSPORT… Meer...
2010
ISBN: 9789048162772
[ED: Softcover], [PU: Springer / Springer Netherlands], Principles of Chemical Vapor Deposition provides a simple introduction to heat and mass transfer, surface and gas phase chemistry, … Meer...
2010, ISBN: 9789048162772
Buch, Softcover, Softcover reprint of hardcover 1st ed. 2003, Principles of Chemical Vapor Deposition provides a simple introduction to heat and mass transfer, surface and gas phase chemi… Meer...
2003, ISBN: 9789048162772
Springer Netherlands, 2003. Paperback. New. 284 pages. 8.80x6.00x0.60 inches., Springer Netherlands, 2003, 6
Bibliografische gegevens van het best passende boek
auteur: | |
Titel: | |
ISBN: |
Gedetalleerde informatie over het boek. - Principles of Chemical Vapor Deposition
EAN (ISBN-13): 9789048162772
ISBN (ISBN-10): 9048162777
Gebonden uitgave
pocket book
Verschijningsjaar: 2010
Uitgever: Springer
288 Bladzijden
Gewicht: 0,439 kg
Taal: eng/Englisch
Boek bevindt zich in het datenbestand sinds 2012-11-13T15:07:08+01:00 (Amsterdam)
Detailpagina laatst gewijzigd op 2024-01-05T18:20:54+01:00 (Amsterdam)
ISBN/EAN: 9789048162772
ISBN - alternatieve schrijfwijzen:
90-481-6277-7, 978-90-481-6277-2
alternatieve schrijfwijzen en verwante zoekwoorden:
Auteur van het boek: zura, dobkin
Gegevens van de uitgever
Auteur: D.M. Dobkin; M.K. Zuraw
Titel: Principles of Chemical Vapor Deposition
Uitgeverij: Springer; Springer Netherland
273 Bladzijden
Verschijningsjaar: 2010-12-01
Dordrecht; NL
Gedrukt / Gemaakt in
Taal: Engels
235,39 € (DE)
241,99 € (AT)
260,00 CHF (CH)
POD
XI, 273 p.
BC; Hardcover, Softcover / Technik/Maschinenbau, Fertigungstechnik; Werkstoffprüfung; Verstehen; Natur; Technologie; chemistry; coating; development; heat transfer; manufacturing; metal; physics; pressure; transport; vapor; Characterization and Analytical Technique; Industrial Chemistry; Machines, Tools, Processes; Nuclear Physics; Industrielle Chemie und Chemietechnologie; Fertigungstechnik und Ingenieurwesen; Atom- und Molekularphysik; BB; EA
1. Introduction.- 2. Reactors Without Transport.- 3. Mass Transport.- 4. Heat Transport.- 5. Chemistry for CVD.- 6. Gas Discharge Plasmas For CVD.- 7. CVD Films.- 8. CVD Reactors.Andere boeken die eventueel grote overeenkomsten met dit boek kunnen hebben:
Laatste soortgelijke boek:
9789401703697 Principles of Chemical Vapor Deposition (>100)
< naar Archief...