- 5 resultaten
laagste prijs: € 166,99, hoogste prijs: € 191,49, gemiddelde prijs: € 171,89
1
Fundamental Principles of Optical Lithography : The Science of Microfabrication - Kees Boersma
bestellen
bij hive.co.uk
£ 160,14
(ongeveer € 191,49)
bestellen
Details en verzending
Gesponsorde link
Kees Boersma:

Fundamental Principles of Optical Lithography : The Science of Microfabrication - nieuw boek

ISBN: 9781119965077

The fabrication of an integrated circuit requires a variety of physical and chemical processes to be performed on a semiconductor substrate. In general, these processes fall into three ca… Meer...

No. 9781119965077. Verzendingskosten:Instock, Despatched same working day before 3pm, zzgl. Versandkosten., exclusief verzendingskosten
dichtslaan (X)
2
Fundamental Principles of Optical Lithography - Chris Mack
bestellen
bij Hugendubel.de
€ 166,99
verzending: € 0,001
bestellen
Details aangeboden
Gesponsorde link

Chris Mack:

Fundamental Principles of Optical Lithography - nieuw boek

ISBN: 9781119965077

Fundamental Principles of Optical Lithography ab 166.99 € als epub eBook: The Science of Microfabrication. Aus dem Bereich: eBooks, Sachthemen & Ratgeber, Technik, Medien > Bücher nein eB… Meer...

Verzendingskosten:In stock (Download), , Versandkostenfrei nach Hause oder Express-Lieferung in Ihre Buchhandlung., DE. (EUR 0.00)
dichtslaan (X)
3
Fundamental Principles of Optical Lithography - Chris Mack
bestellen
bij eBook.de
€ 166,99
verzending: € 0,001
bestellen
Details aangeboden
Gesponsorde link
Chris Mack:
Fundamental Principles of Optical Lithography - nieuw boek

ISBN: 9781119965077

Fundamental Principles of Optical Lithography - The Science of Microfabrication: ab 166.99 € eBooks > Sachthemen & Ratgeber > Technik John Wiley & Sons eBook als epub, John Wiley & Sons

Verzendingskosten:in stock, , , DE. (EUR 0.00)
dichtslaan (X)
4
Fundamental Principles of Optical Lithography - Chris Mack
bestellen
bij eBook.de
€ 166,99
verzending: € 0,001
bestellen
Details aangeboden
Gesponsorde link
Chris Mack:
Fundamental Principles of Optical Lithography - nieuw boek

ISBN: 9781119965077

Fundamental Principles of Optical Lithography - The Science of Microfabrication: ab 166.99 € eBooks > Sachthemen & Ratgeber > Technik John Wiley & Sons, John Wiley & Sons

Verzendingskosten:in stock, , , DE. (EUR 0.00)
dichtslaan (X)
5
Fundamental Principles of Optical Lithography - Chris Mack
bestellen
bij Thalia.de
€ 166,99
verzending: € 0,001
bestellen
Details aangeboden
Gesponsorde link
Chris Mack:
Fundamental Principles of Optical Lithography - nieuw boek

2011, ISBN: 9781119965077

The Science of Microfabrication eBook Chris Mack ePUB, John Wiley & Sons Inc, 10.08.2011, John Wiley & Sons Inc, 2011

Nr. 39951382. Verzendingskosten:, Sofort per Download lieferbar, DE. (EUR 0.00)
dichtslaan (X)
1Aangezien sommige platformen geen verzendingsvoorwaarden meedelen en deze kunnen afhangen van het land van levering, de aankoopprijs, het gewicht en de grootte van het artikel, een eventueel lidmaatschap van het platform, een rechtstreekse levering door het platform of via een derde aanbieder (Marktplaats), enz., is het mogelijk dat de door euro-boek.nl meegedeelde verzendingskosten niet overeenstemmen met deze van het aanbiedende platform.

Bibliografische gegevens van het best passende boek

Bijzonderheden over het boek
Fundamental Principles of Optical Lithography
auteur:
Titel:
ISBN:

9781119965077

Gedetalleerde informatie over het boek. - Fundamental Principles of Optical Lithography


EAN (ISBN-13): 9781119965077
ISBN (ISBN-10): 1119965071
Verschijningsjaar: 2011
Uitgever: John Wiley & Sons

Boek bevindt zich in het datenbestand sinds 2008-10-14T13:04:22+02:00 (Amsterdam)
Detailpagina laatst gewijzigd op 2022-12-26T17:28:37+01:00 (Amsterdam)
ISBN/EAN: 9781119965077

ISBN - alternatieve schrijfwijzen:
1-119-96507-1, 978-1-119-96507-7
alternatieve schrijfwijzen en verwante zoekwoorden:
Auteur van het boek: john mack
Titel van het boek: fundamental principles, lithography

Gegevens van de uitgever

Auteur: Chris Mack
Titel: Fundamental Principles of Optical Lithography - The Science of Microfabrication
Uitgeverij: Wiley; John Wiley & Sons
534 Bladzijden
Verschijningsjaar: 2011-08-10
Taal: Engels
169,99 € (DE)
Not available (reason unspecified)

EA; E101; E-Book; Nonbooks, PBS / Technik/Elektronik, Elektrotechnik, Nachrichtentechnik; Elektronische Geräte und Materialien; Electrical & Electronics Engineering; Elektrotechnik u. Elektronik; Halbleiter; Halbleiterphysik; Lithographie; Physics; Physik; Semiconductor Physics; Semiconductors; Halbleiter; Halbleiterphysik; BB; BC

Preface. 1. Introduction to Semiconductor Lithography. 1.1 Basics of IC Fabrication. 1.2 Moore's Law and the Semiconductor Industry. 1.3 Lithography Processing. Problems. 2. Aerial Image Formation - The Basics. 2.1 Mathematical Description of Light. 2.2 Basic Imaging Theory. 2.3 Partial Coherence. 2.4 Some Imaging Examples. Problems. 3. Aerial Image Formation - The Details. 3.1 Aberrations. 3.2 Pupil Filters and Lens Apodization. 3.3 Flare. 3.4 Defocus. 3.5 Imaging with Scanners Versus Steppers. 3.6 Vector Nature of Light. 3.7 Immersion Lithography. 3.8 Image Quality. Problems. 4. Imaging in Resist: Standing Waves and SwingCurves. 4.1 Standing Waves. 4.2 Swing Curves. 4.3 Bottom Antirefl ection Coatings. 4.4 Top Antirefl ection Coatings. 4.5 Contrast Enhancement Layer. 4.6 Impact of the Phase of the Substrate Refl ectance. 4.7 Imaging in Resist. 4.8 Defi ning Intensity. Problems. 5. Conventional Resists: Exposure and Bake Chemistry. 5.1 Exposure. 5.2 Post-Apply Bake. 5.3 Post-exposure Bake Diffusion. 5.4 Detailed Bake Temperature Behavior. 5.5 Measuring the ABC Parameters. Problems. 6. Chemically Amplifi ed Resists: Exposure and BakeChemistry. 6.1 Exposure Reaction. 6.2 Chemical Amplifi cation. 6.3 Measuring Chemically Amplifi ed Resist Parameters. 6.4 Stochastic Modeling of Resist Chemistry. Problems. 7. Photoresist Development. 7.1 Kinetics of Development. 7.2 The Development Contrast. 7.3 The Development Path. 7.4 Measuring Development Rates. Problems. 8. Lithographic Control in SemiconductorManufacturing. 8.1 Defi ning Lithographic Quality. 8.2 Critical Dimension Control. 8.3 How to Characterize Critical Dimension Variations. 8.4 Overlay Control. 8.5 The Process Window. 8.6 H-V Bias. 8.7 Mask Error Enhancement Factor (MEEF). 8.8 Line-End Shortening. 8.9 Critical Shape and Edge Placement Errors. 8.10 Pattern Collapse. Problems. 9. Gradient-Based Lithographic Optimization: Using theNormalized Image Log-Slope. 9.1 Lithography as Information Transfer. 9.2 Aerial Image. 9.3 Image in Resist. 9.4 Exposure. 9.5 Post-exposure Bake. 9.6 Develop. 9.7 Resist Profi le Formation. 9.8 Line Edge Roughness. 9.9 Summary. Problems. 10. Resolution Enhancement Technologies. 10.1 Resolution. 10.2 Optical Proximity Correction (OPC). 10.3 Off-Axis Illumination (OAI). 10.4 Phase-Shifting Masks (PSM). 10.5 Natural Resolutions. Problems. Appendix A. Glossary of Microlithographic Terms. Appendix B. Curl, Divergence, Gradient, Laplacian. Appendix C. The Dirac Delta Function. Index.

Andere boeken die eventueel grote overeenkomsten met dit boek kunnen hebben:

Laatste soortgelijke boek:
9780470723869 Fundamental Principles of Optical Lithography (50-99.99)

< naar Archief...